（北京14日讯）中国半导体设备厂北京屹唐半导体科技股份有限公司（简称屹唐半导体），指控全球最大半导体制造设备和服务供应商——应用材料（Applied Materials）非法窃取其等离子体源及晶圆表面处理核心技术，并在中国境内以专利申请方式揭露，遂向北京知识产权法院提告，求偿9999万人民币（约5851万令吉）。
综合中国媒体报导，案件已立案，尚未开庭审理。
招聘两前员工 获取核心技术
屹唐半导体公告称，应材招聘两名曾在原告全资子公司Mattson Technology（MTI）工作的涉案员工，且招聘的两位员工了解公司关于等离子体的产生和处理方法的核心技术，熟悉和掌握相关设备结构以及技术流程。
但根据证据显示，应材在招募该两名员工入职后，向中国国家智慧财产权局提交了一份发明专利申请，其中主要发明人即为前述两名员工，该专利申请披露了原告与MTI公司共同所有的涉案技术机密。
因认为应用材料公司非法获取并使用了公司的等离子体源，及晶圆表面处理相关的核心技术秘密，还在中国境内以申请专利的方式披露了该技术秘密，且将该专利申请权据为己有，构成侵犯商业秘密的行为，因此向北京知识产权法院提起诉讼，诉讼金额为9999万人民币。
